超越日本! 我国第一台纳米压印光刻机交付: 进军10nm以下

近日，璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备，顺利通过验收，并交付至国内特色工艺客户，初步完成储存芯片、硅基微显、硅光、先进封装等芯片研发验证。

这标志着我国在高端半导体装备制造领域迈出坚实的一步！

据悉，璞璘科技的PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备攻克了步进硬板的非真空完全贴合、喷胶与薄胶压印、压印胶残余层控制等关键技术难题，可对应线宽小于10nm的纳米压印光刻工艺。

它还配备自主研发的模板面型控制系统、纳米压印光刻胶喷墨算法系统、喷墨打印材料匹配，搭配自主开发的软件控制系统。

目前在纳米压印技术领域，日本居于世界领先地位，比如佳能的FPA-1200NZ2C纳米压印光刻机，可实现14nm线宽，号称能够生产5nm工艺芯片。

很显然，璞璘科技在指标上已经超越了佳能，当然也要明白，这不意味着璞璘科技就能制造5nm乃至更先进的芯片。

纳米压印技术虽然不像EUV光刻技术需要复杂、昂贵的光源系统，可显著降低能耗、成本，但其制造芯片的速度远比光刻技术慢得多，而且只适合相对简单的芯片。

璞璘科技PL-SR系列成功攻克了喷墨涂胶工艺多项技术瓶颈，在喷涂型纳米压印光刻材料方面实现重大突破，成功实现了纳米级的压印膜厚，平均残余层小于10nm，残余层变化小于2nm，压印结构深宽比大于7:1。

PL-SR系列还突破了纳米压印模板面型控制的技术难点。

PL-SR是一种通用的、重复步进纳米压印光刻系统，具有高效、高精度的压印功能，还具备拼接复杂结构的性能。

它还可满足模板拼接的需求，最小可实现20mmx20mm的压印模板均匀的拼接，最终可实现300mm晶圆级超大面积的模板。